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在中国国际工业博览会上，高端光刻机的"心脏"终于露面了。据快科技10月14日报道，在第二十六届中国国际工业博览会（国家会展中心·上海）上，朗道燧岩首次公开展示了其 EUV 光源系统样机——这是目前公开展示中进度最靠前的国产 EUV 光源样机。
EUV 光源是极紫外光刻机的核心部件，长期由荷兰 ASML 合作的 Cymer 等国外厂商主导。朗道燧岩现场介绍，该样机国产化率达 90%，技术路线与国际领先厂商一致（激光等离子体 LPP 路线），可用于芯片曝光测试。不过公司方面坦言，距离真正量产仍需 3–5 年，还有一段路要走。
从公开信息看，团队并非"凭空起家"：朗道燧岩成立于 2024 年，创始人王豪博士的团队源自清华大学气体放电等离子体实验室，有扎实的等离子体物理积累。产品线已先行落地低功率版本：FlintNano LPP-OXXO 已产品化，驱动激光 1000W、重复频率 1–20kHz、转换效率>2%、EUV 能量>15W，并已实现持续工作超 100 小时、等离子体尺寸 60 微米；更高功率的 FlintMicro-LPP 系列则完成了原理论证。资本层面也一路加速：2025 年 10 月获张江高科燧玥创投天使轮，2026 年 1 月完成天使+轮，7 月完成 A 轮（沃衍资本、中芯聚源等参投）。
点评：EUV 光源是"从 0 到 1"属性最强的光电子难题之一。国产样机公开亮相、国产化率 90% 意义重大，但"样机"到"量产"的 3–5 年窗口同样关键——曝光测试、可靠性、产线集成每一关都是硬骨头。对行业来说，这意味着国产 EUV 供应链的实物图谱正在被一块块拼出来。
出处：https://p3l9b43bgb2.apostaorbihouse.com/article/20261019/66950923.html
EUV 光源是极紫外光刻机的核心部件，长期由荷兰 ASML 合作的 Cymer 等国外厂商主导。朗道燧岩现场介绍，该样机国产化率达 90%，技术路线与国际领先厂商一致（激光等离子体 LPP 路线），可用于芯片曝光测试。不过公司方面坦言，距离真正量产仍需 3–5 年，还有一段路要走。
从公开信息看，团队并非"凭空起家"：朗道燧岩成立于 2024 年，创始人王豪博士的团队源自清华大学气体放电等离子体实验室，有扎实的等离子体物理积累。产品线已先行落地低功率版本：FlintNano LPP-OXXO 已产品化，驱动激光 1000W、重复频率 1–20kHz、转换效率>2%、EUV 能量>15W，并已实现持续工作超 100 小时、等离子体尺寸 60 微米；更高功率的 FlintMicro-LPP 系列则完成了原理论证。资本层面也一路加速：2025 年 10 月获张江高科燧玥创投天使轮，2026 年 1 月完成天使+轮，7 月完成 A 轮（沃衍资本、中芯聚源等参投）。
点评：EUV 光源是"从 0 到 1"属性最强的光电子难题之一。国产样机公开亮相、国产化率 90% 意义重大，但"样机"到"量产"的 3–5 年窗口同样关键——曝光测试、可靠性、产线集成每一关都是硬骨头。对行业来说，这意味着国产 EUV 供应链的实物图谱正在被一块块拼出来。
出处：https://p3l9b43bgb2.apostaorbihouse.com/article/20261019/66950923.html
